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Cible rotative de pulvérisation par magnétron 100 pour ligne de production de revêtement sous vide, substrat en acier, économie d'énergie

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1 549,92-2 324,87 €
Quantité minimale : 1 jeu

Numéro de modèle

Rotary Target

Caractéristiques

Tension électrique

380V

Type de machine

Équipement de revêtement

Revêtement

Métallisation sous vide

Substrat

Acier

Garantie commerciale

1 AN

Composants essentiels

Engrenage

Expédition

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Caractéristiques du produit

Substrat
Acier
Revêtement
Métallisation sous vide
Type
Chaîne de Production de Revêtement
Tension électrique
380V
Composants essentiels
Engrenage
Arguments de vente clés
Facile à Utiliser, Longue Durée de Vie, Économie d'énergie
Type de machine
Équipement de revêtement
Garantie commerciale
1 AN
Rapport dessai de machines
Fourni
Inspection vidéo au départ
Fourni
Puissance (W)
100
Point d'origine
Shenyang.China
Poids (kg)
50
Nom de marque
PLASMA LIMITED
Dimensions (L*l*H)
L7000 W3200 H2500mm
Type
cathode
Technology
PVD Rotary Target technology
Application
Used in magnetron sputtering plating machine
Power supply
Rotary Target power supply

Emballage et livraison

vente Unités
Article unique
seul volume
0 cm
unique poids brut
0.0 kg

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Description des produits par le fournisseur