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Marchés principaux: États-Unis d'Amérique, Allemagne

Films minces personnalisés en oxyde de silicium SiO2 et en nitrure de silicium Si3N4, revêtus par dépôt chimique par vapeur (PECVD/LPCVD)

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8,71-156,61 €
Quantité minimale : 25 pièce

Spécification

Nitrure de silicium LPCVD à faible contrainte - 8 pouces LP SI3N4 500nm
Nitrure de silicium LPCVD à faible contrainte - 4 pouces 200um LP SI3N4 100nm
Nitrure de silicium LPCVD à faible contrainte - 4 pouces 200um LP SI3N4 120nm
Nitrure de silicium LPCVD à faible contrainte - 4 pouces LP SI3N4 300nm
Nitrure de silicium LPCVD à faible contrainte - 4 pouces LP SI3N4 500nm
Nitrure de silicium LPCVD à faible contrainte - 6 pouces LP SI3N4 180nm
Nitrure de silicium PECVD - 4 pouces PE Si3N4 300nm
Nitrure de silicium PECVD - 4 pouces PE Si3N4 1µm
Nitrure de silicium PECVD - 4 pouces PE Si3N4 2µm
+13

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Caractéristiques du produit

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Matériel
SiO2, Si3N4
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None
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other
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