Cible de pulvérisation par magnétron planaire DC pour métaux précieux
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Attributs
AcierSubstrat
Métallisation sous videRevêtement
Chaîne de Production de RevêtementType
380VTension électrique
EngrenageComposants essentiels
Facile à Utiliser, Longue Durée de Vie, Économie d'énergieArguments de vente clés
Puissance (W):100
Point d'origine:Shenyang.China
Garantie commerciale:1 AN
Poids (kg):50
Inspection vidéo au départ:Fourni
Rapport dessai de machines:Fourni
Nom de marque:PLASMA LIMITED
Dimensions (L*l*H):L7000 W3200 H2500mm
Technology:PVD Magnetron Sputtering Target technology
Application:Used in magnetron sputtering plating machine
Power supply:Magnetron Sputtering Target supply
Caractéristiques du produit
Substrat
Acier
Revêtement
Métallisation sous vide
Type
Chaîne de Production de Revêtement
Tension électrique
380V
Composants essentiels
Engrenage
Arguments de vente clés
Facile à Utiliser, Longue Durée de Vie, Économie d'énergie
Garantie commerciale
1 AN
Rapport dessai de machines
Fourni
Inspection vidéo au départ
Fourni
Puissance (W)
100
Point d'origine
Shenyang.China
Poids (kg)
50
Nom de marque
PLASMA LIMITED
Dimensions (L*l*H)
L7000 W3200 H2500mm
Type
cathode
Technology
PVD Magnetron Sputtering Target technology
Application
Used in magnetron sputtering plating machine
Power supply
Magnetron Sputtering Target supply
Emballage et livraison
vente Unités
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Quantité minimale : 1 jeu
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