Cible de pulvérisation par magnétron à cathode planaire pour machine de revêtement sous vide
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Attributs
AcierSubstrat
Métallisation sous videRevêtement
Chaîne de Production de RevêtementType
380VTension électrique
EngrenageComposants essentiels
Facile à Utiliser, Longue Durée de Vie, Économie d'énergieArguments de vente clés
Type de machine:Planar Cathode
Garantie commerciale:1 AN
Rapport dessai de machines:Fourni
Inspection vidéo au départ:Fourni
Puissance (W):100
Point d'origine:Shenyang.China
Poids (kg):50
Nom de marque:PLASMA LIMITED
Dimensions (L*l*H):L7000 W3200 H2500mm
Type:cathode
Technology:Magnetron Sputtering Target
Application:Used in magnetron sputtering plating machine
Power supply:Magnetron Sputtering Target power supply
Caractéristiques du produit
Substrat
Acier
Revêtement
Métallisation sous vide
Type
Chaîne de Production de Revêtement
Tension électrique
380V
Composants essentiels
Engrenage
Arguments de vente clés
Facile à Utiliser, Longue Durée de Vie, Économie d'énergie
Type de machine
Planar Cathode
Garantie commerciale
1 AN
Rapport dessai de machines
Fourni
Inspection vidéo au départ
Fourni
Puissance (W)
100
Point d'origine
Shenyang.China
Poids (kg)
50
Nom de marque
PLASMA LIMITED
Dimensions (L*l*H)
L7000 W3200 H2500mm
Type
cathode
Technology
Magnetron Sputtering Target
Application
Used in magnetron sputtering plating machine
Power supply
Magnetron Sputtering Target power supply
Emballage et livraison
vente Unités
Article unique
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Description des produits par le fournisseur
Quantité minimale : 1 jeu
3 150,62-6 301,23 €Options
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