All categories

Featured selections

Trade Assurance

Buyer Central

Help Center

Get the app

Become a supplier

Pecvd

(60 produits disponibles)

Four de laboratoire PECVD-CVD avec système de dépôt chimique par évaporation amélioré par plasma - Product Image 1

Four de laboratoire PECVD-CVD avec système de dépôt chimique par évaporation amélioré par plasma - Product Image 2

Four de laboratoire PECVD-CVD avec système de dépôt chimique par évaporation amélioré par plasma - Product Image 3

Four de laboratoire PECVD-CVD avec système de dépôt chimique par évaporation amélioré par plasma - Product Image 4

Four de laboratoire PECVD-CVD avec système de dépôt chimique par évaporation amélioré par plasma - Product Image 5

Four de laboratoire PECVD-CVD avec système de dépôt chimique par évaporation amélioré par plasma - Product Image 6

Four de laboratoire PECVD-CVD avec système de dépôt chimique par évaporation amélioré par plasma

898,70-2 696,10 €

quantité minimum: 1 jeu

Brother Furnace Co., Limited

1 yrs

HK

Four de laboratoire PECVD-CVD à vide poussé avec éléments chauffants MoSi2 pour le dépôt de films minces et le traitement des semi-conducteurs - Product Image 1

Four de laboratoire PECVD-CVD à vide poussé avec éléments chauffants MoSi2 pour le dépôt de films minces et le traitement des semi-conducteurs - Product Image 2

Four de laboratoire PECVD-CVD à vide poussé avec éléments chauffants MoSi2 pour le dépôt de films minces et le traitement des semi-conducteurs - Product Image 3

Four de laboratoire PECVD-CVD à vide poussé avec éléments chauffants MoSi2 pour le dépôt de films minces et le traitement des semi-conducteurs - Product Image 4

Four de laboratoire PECVD-CVD à vide poussé avec éléments chauffants MoSi2 pour le dépôt de films minces et le traitement des semi-conducteurs - Product Image 5

Four de laboratoire PECVD-CVD à vide poussé avec éléments chauffants MoSi2 pour le dépôt de films minces et le traitement des semi-conducteurs - Product Image 6

Four de laboratoire PECVD-CVD à vide poussé avec éléments chauffants MoSi2 pour le dépôt de films minces et le traitement des semi-conducteurs

898,70-2 696,10 €

quantité minimum: 1 jeu

Brother Furnace Co., Limited

1 yrs

HK

Four de laboratoire PECVD-CVD à vide poussé personnalisé avec éléments chauffants en MoSi2 pour la croissance du graphène, le revêtement CVD et la recherche sur les nanomatériaux - Product Image 1

Four de laboratoire PECVD-CVD à vide poussé personnalisé avec éléments chauffants en MoSi2 pour la croissance du graphène, le revêtement CVD et la recherche sur les nanomatériaux - Product Image 2

Four de laboratoire PECVD-CVD à vide poussé personnalisé avec éléments chauffants en MoSi2 pour la croissance du graphène, le revêtement CVD et la recherche sur les nanomatériaux - Product Image 3

Four de laboratoire PECVD-CVD à vide poussé personnalisé avec éléments chauffants en MoSi2 pour la croissance du graphène, le revêtement CVD et la recherche sur les nanomatériaux - Product Image 4

Four de laboratoire PECVD-CVD à vide poussé personnalisé avec éléments chauffants en MoSi2 pour la croissance du graphène, le revêtement CVD et la recherche sur les nanomatériaux - Product Image 5

Four de laboratoire PECVD-CVD à vide poussé personnalisé avec éléments chauffants en MoSi2 pour la croissance du graphène, le revêtement CVD et la recherche sur les nanomatériaux - Product Image 6

Four de laboratoire PECVD-CVD à vide poussé personnalisé avec éléments chauffants en MoSi2 pour la croissance du graphène, le revêtement CVD et la recherche sur les nanomatériaux

898,70-2 696,10 €

quantité minimum: 1 jeu

Brother Furnace Co., Limited

1 yrs

HK

Four industriel à haute vide PECVD-CVD avec éléments chauffants en MoSi2 pour le dépôt de films de graphène et de carbone sur plaquettes semi-conductrices - Product Image 1

Four industriel à haute vide PECVD-CVD avec éléments chauffants en MoSi2 pour le dépôt de films de graphène et de carbone sur plaquettes semi-conductrices - Product Image 2

Four industriel à haute vide PECVD-CVD avec éléments chauffants en MoSi2 pour le dépôt de films de graphène et de carbone sur plaquettes semi-conductrices - Product Image 3

Four industriel à haute vide PECVD-CVD avec éléments chauffants en MoSi2 pour le dépôt de films de graphène et de carbone sur plaquettes semi-conductrices - Product Image 4

Four industriel à haute vide PECVD-CVD avec éléments chauffants en MoSi2 pour le dépôt de films de graphène et de carbone sur plaquettes semi-conductrices - Product Image 5

Four industriel à haute vide PECVD-CVD avec éléments chauffants en MoSi2 pour le dépôt de films de graphène et de carbone sur plaquettes semi-conductrices - Product Image 6

Four industriel à haute vide PECVD-CVD avec éléments chauffants en MoSi2 pour le dépôt de films de graphène et de carbone sur plaquettes semi-conductrices

898,70-2 696,10 €

quantité minimum: 1 jeu

Brother Furnace Co., Limited

1 yrs

HK

Novellus 03-152064-02 Tête de distribution de gaz PECVD utilisée telle qu'elle est, pièces d'équipement semi-conducteur d'occasion - Product Image 1

Novellus 03-152064-02 Tête de distribution de gaz PECVD utilisée telle qu'elle est, pièces d'équipement semi-conducteur d'occasion - Product Image 2

Novellus 03-152064-02 Tête de distribution de gaz PECVD utilisée telle qu'elle est, pièces d'équipement semi-conducteur d'occasion - Product Image 3

Novellus 03-152064-02 Tête de distribution de gaz PECVD utilisée telle qu'elle est, pièces d'équipement semi-conducteur d'occasion - Product Image 4

Novellus 03-152064-02 Tête de distribution de gaz PECVD utilisée telle qu'elle est, pièces d'équipement semi-conducteur d'occasion - Product Image 5

Novellus 03-152064-02 Tête de distribution de gaz PECVD utilisée telle qu'elle est, pièces d'équipement semi-conducteur d'occasion - Product Image 6

Novellus 03-152064-02 Tête de distribution de gaz PECVD utilisée telle qu'elle est, pièces d'équipement semi-conducteur d'occasion

359,48 €

quantité minimum: 1 pièce

1 yrs

KR

Fabricant de fours PECVD-CVD sur mesure pour les applications de revêtement CVD, les nanomatériaux et la recherche - Product Image 1

Fabricant de fours PECVD-CVD sur mesure pour les applications de revêtement CVD, les nanomatériaux et la recherche - Product Image 2

Fabricant de fours PECVD-CVD sur mesure pour les applications de revêtement CVD, les nanomatériaux et la recherche - Product Image 3

Fabricant de fours PECVD-CVD sur mesure pour les applications de revêtement CVD, les nanomatériaux et la recherche - Product Image 4

Fabricant de fours PECVD-CVD sur mesure pour les applications de revêtement CVD, les nanomatériaux et la recherche - Product Image 5

Fabricant de fours PECVD-CVD sur mesure pour les applications de revêtement CVD, les nanomatériaux et la recherche - Product Image 6

Fabricant de fours PECVD-CVD sur mesure pour les applications de revêtement CVD, les nanomatériaux et la recherche

898,70-2 696,10 €

quantité minimum: 1 jeu

Brother Furnace Co., Limited

1 yrs

HK

Four de laboratoire PECVD-CVD haute température avec vide poussé et éléments chauffants MoSi2 pour le revêtement de films minces de graphène et de diamant - Product Image 1

Four de laboratoire PECVD-CVD haute température avec vide poussé et éléments chauffants MoSi2 pour le revêtement de films minces de graphène et de diamant - Product Image 2

Four de laboratoire PECVD-CVD haute température avec vide poussé et éléments chauffants MoSi2 pour le revêtement de films minces de graphène et de diamant - Product Image 3

Four de laboratoire PECVD-CVD haute température avec vide poussé et éléments chauffants MoSi2 pour le revêtement de films minces de graphène et de diamant - Product Image 4

Four de laboratoire PECVD-CVD haute température avec vide poussé et éléments chauffants MoSi2 pour le revêtement de films minces de graphène et de diamant - Product Image 5

Four de laboratoire PECVD-CVD haute température avec vide poussé et éléments chauffants MoSi2 pour le revêtement de films minces de graphène et de diamant - Product Image 6

Four de laboratoire PECVD-CVD haute température avec vide poussé et éléments chauffants MoSi2 pour le revêtement de films minces de graphène et de diamant

898,70-2 696,10 €

quantité minimum: 1 jeu

Brother Furnace Co., Limited

1 yrs

HK

Four tubulaire PECVD pour usage en laboratoire haute température avec éléments chauffants MoSi2 et haute vide pour la croissance du graphène et le processus de revêtement CVD - Product Image 1

Four tubulaire PECVD pour usage en laboratoire haute température avec éléments chauffants MoSi2 et haute vide pour la croissance du graphène et le processus de revêtement CVD - Product Image 2

Four tubulaire PECVD pour usage en laboratoire haute température avec éléments chauffants MoSi2 et haute vide pour la croissance du graphène et le processus de revêtement CVD - Product Image 3

Four tubulaire PECVD pour usage en laboratoire haute température avec éléments chauffants MoSi2 et haute vide pour la croissance du graphène et le processus de revêtement CVD - Product Image 4

Four tubulaire PECVD pour usage en laboratoire haute température avec éléments chauffants MoSi2 et haute vide pour la croissance du graphène et le processus de revêtement CVD - Product Image 5

Four tubulaire PECVD pour usage en laboratoire haute température avec éléments chauffants MoSi2 et haute vide pour la croissance du graphène et le processus de revêtement CVD - Product Image 6

Four tubulaire PECVD pour usage en laboratoire haute température avec éléments chauffants MoSi2 et haute vide pour la croissance du graphène et le processus de revêtement CVD

898,70-2 696,10 €

quantité minimum: 1 jeu

Brother Furnace Co., Limited

1 yrs

HK

Recherches associées:

vd auto ccav cv rapid xc video dv2 ypd fccv cvbs psvd2 21 cv 2 cv auto pv syst vcd cvr e v d pro vdh cvt transmission vcds vds ccd s