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Système de dépôt atomique en couches (ALD) à faible dommage pour la fabrication avancée de plaquettes semi-conductrices - Product Image 1

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Système de dépôt atomique en couches (ALD) à faible dommage pour la fabrication avancée de plaquettes semi-conductrices

86 405,50-95 046,05 €

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Machine de pulvérisation par étincelage PVD industrielle pour le revêtement de plaquettes semi-conductrices - Product Image 1

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Machine de pulvérisation par étincelage PVD industrielle pour le revêtement de plaquettes semi-conductrices

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Équipement de revêtement PVD pour semi-conducteurs R&D, conception compacte - Product Image 1

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Équipement de revêtement PVD pour semi-conducteurs R&D, conception compacte

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Machine de gravure au plasma ICP pour plaquettes de silicium - Product Image 1

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Machine de gravure au plasma ICP pour plaquettes de silicium

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Équipement de dépôt de films minces PVD à haute uniformité pour plaquettes IC - Product Image 1

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Réacteurs chimiques innovants en PTFE (Cuve de réaction) avec mécanisme d'agitation motorisé numérique et contrôle à distance PLC (Plage de vitesse 20-450 tr/min) - Product Image 1

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