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Pecvd

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Système PECVD à petite échelle pour la recherche en semi-conducteurs sur plaquettes - Product Image 1

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Système PECVD à petite échelle pour la recherche en semi-conducteurs sur plaquettes - Product Image 3

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Système PECVD à petite échelle pour la recherche en semi-conducteurs sur plaquettes - Product Image 6

Système PECVD à petite échelle pour la recherche en semi-conducteurs sur plaquettes

86 405,50-95 046,05 €

quantité minimum: 1 jeu

1 yrs

IN

Novellus 03-152064-02 Tête de distribution de gaz PECVD utilisée telle qu'elle est, pièces d'équipement semi-conducteur d'occasion - Product Image 1

Novellus 03-152064-02 Tête de distribution de gaz PECVD utilisée telle qu'elle est, pièces d'équipement semi-conducteur d'occasion - Product Image 2

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Novellus 03-152064-02 Tête de distribution de gaz PECVD utilisée telle qu'elle est, pièces d'équipement semi-conducteur d'occasion

86,41 €

quantité minimum: 1 pièce

1 yrs

KR

Four tubulaire PECVD haute température pour la croissance du graphène et le processus de revêtement CVD - Product Image 1

Four tubulaire PECVD haute température pour la croissance du graphène et le processus de revêtement CVD - Product Image 2

Four tubulaire PECVD haute température pour la croissance du graphène et le processus de revêtement CVD - Product Image 3

Four tubulaire PECVD haute température pour la croissance du graphène et le processus de revêtement CVD - Product Image 4

Four tubulaire PECVD haute température pour la croissance du graphène et le processus de revêtement CVD - Product Image 5

Four tubulaire PECVD haute température pour la croissance du graphène et le processus de revêtement CVD - Product Image 6

Four tubulaire PECVD haute température pour la croissance du graphène et le processus de revêtement CVD

864,06-2 592,17 €

quantité minimum: 1 jeu

Brother Furnace Co., Limited

1 yrs

HK

Système PECVD entièrement automatique pour ligne de plaquettes de silicium - Product Image 1

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Système PECVD entièrement automatique pour ligne de plaquettes de silicium

86 405,50-95 046,05 €

quantité minimum: 1 jeu

1 yrs

IN

Système de dépôt de films minces PECVD pour le traitement des plaquettes de silicium - Product Image 1

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Système de dépôt de films minces PECVD pour le traitement des plaquettes de silicium

86 405,50-95 046,05 €

quantité minimum: 1 jeu

1 yrs

IN

Équipement PECVD pour plaquettes de silicium de 8 pouces pour le revêtement de films minces en SiO2 - Product Image 1

Équipement PECVD pour plaquettes de silicium de 8 pouces pour le revêtement de films minces en SiO2 - Product Image 2

Équipement PECVD pour plaquettes de silicium de 8 pouces pour le revêtement de films minces en SiO2 - Product Image 3

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Équipement PECVD pour plaquettes de silicium de 8 pouces pour le revêtement de films minces en SiO2

86 405,50-95 046,05 €

quantité minimum: 1 jeu

1 yrs

IN

Équipement automatique de dépôt de film mince en nitrure de silicium PECVD pour le processus de fabrication de circuits intégrés - Product Image 1

Équipement automatique de dépôt de film mince en nitrure de silicium PECVD pour le processus de fabrication de circuits intégrés - Product Image 2

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Équipement automatique de dépôt de film mince en nitrure de silicium PECVD pour le processus de fabrication de circuits intégrés - Product Image 4

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Équipement automatique de dépôt de film mince en nitrure de silicium PECVD pour le processus de fabrication de circuits intégrés - Product Image 6

Équipement automatique de dépôt de film mince en nitrure de silicium PECVD pour le processus de fabrication de circuits intégrés

86 405,50-95 046,05 €

quantité minimum: 1 jeu

1 yrs

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Système PECVD de couche diélectrique pour plaquettes IC - Product Image 1

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Système PECVD de couche diélectrique pour plaquettes IC

86 405,50-95 046,05 €

quantité minimum: 1 jeu

1 yrs

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